2025年度ビーム物理研究会、若手の会
17–19 Mar 2026
Asia/Tokyo timezone
Overview
主催 : 高エネルギー加速器研究機構 加速器研究施設
共催 : ビーム物理研究会、ビーム物理研究会若手の会、日本物理学会、高エネルギー加速器科学研究奨励会
後援 : 日本加速器学会
実行委員: 満田 史織、大谷 将士、島田 美帆、内藤 大地、伊藤 史哲、杉村 仁志、篠原 智史、齊藤 寛峻
会期 : 2026年3月17日(火) 〜3月19日(木)
会場:高エネルギー加速器研究機構 つくばキャンパス 小林ホール
研究会構成 :
3月17日 午後~3月18日 午前:若手の会(予定)
3月18日 午前中:施設見学(予定)
3月18日 午後〜3月19日 午後: 本会(予定)
企画講演:
「X線による半導体チップメトロロジー」, 澁谷 達則氏 (産総研)
「X線天文衛星XRISMと実験室宇宙物理学」, 山口 弘悦氏 (JAXA)
申し込み開始:12月22日(月)
発表申込&懇親会締切:2月20日(金) 締め切りました
参加申込:3月8日(日)
若手の会懇親会費(3/17):スタッフ・ポスドク 3,500円、学生 1,500円
本会懇親会費(3/18):スタッフ・ポスドク 4,500円、学生 2,000円
ドミトリー宿泊費:3,100円(スタッフ)、
学生・ポスドクの方はドミトリー宿泊費をこちらでサポートいたします。
事務局メール:
bpws2025_office@ml.post.kek.jp
ポスターセッションに記載されている発表時間は、システム上の都合によるものですので、無視してください。
Please ignore the presentation time listed for the poster session, as it appears due to system limitations.
宇宙に存在する物質の大部分は、X線を放射する温度帯(数100万度〜数億度)のプラズマとして存在する。したがって天体プラズマのX線観測は、宇宙の力学的・化学的進化を理解するうえで不可欠である。
JAXAが運用するX線分光撮像衛星XRISMは、このような宇宙の高温プラズマを観測するために開発されたミッションである。主力観測装置であるX線マイクロカロリメータResolveは、50 mKの極低温で稼働する非分散型の分光装置であり、4.5 eV @ 6 keV (FWHM)のエネルギー分解能を軌道上で達成した。この値は従来のX線天文衛星の約40倍の分光性能に相当し、様々な高エネルギー天体に対する精密プラズマ診断を可能にした。XRISMはこの性能を活かし、これまでにX線連星、超新星残骸、活動銀河核、銀河団などの高エネルギー天体から多くの新知見を得ている。本講演の前半では、XRISMによる最新の科学成果を紹介する。
天体プラズマは、強重力場や強磁場、強い放射場、さらには極端な高密度・低密度といった、地上では再現が難しい極限環境下の物理を探る貴重な「実験場」を提供する。一方で、観測されるX線スペクトルは、異なる状態のプラズマ成分が重なり合った複雑な構造を示すことが多く、その物理的解釈は容易ではない。この課題を克服し、天文学的観測から得られる物理的知見の信頼性を高めるためには、実験室プラズマを用いた検証実験が重要となる。
私たちはこの観点から、電子ビームイオントラップ(EBIT)を用いた高分解能分光実験を行っている。EBITでは、強磁場中で集束した電子ビームにより高電離イオンを生成し、原子遷移に伴う特性X線を測定する。さらに、放射光施設と組み合わせた独自の実験系により、多様な高電離イオンについて遷移エネルギーや振動子強度を高精度で決定することが可能となる。本講演の後半では、私たちが取り組むEBIT実験について紹介するとともに、天体物理学と実験物理学との今後の連携の展望について議論する。
AIチップなどに代表される先端半導体開発は, 成長分野の中核を担う重要な基盤技術であり, 今後も高NA EUVリソグラフィーや3DICパッケージング技術の進展による高性能化が期待されている. 一方で, リバースエンジニアリング等の脅威による技術流出が懸念されており, これを阻止する技術やより高度な評価技術は安全保障上, 重要となる. X線は高い透過力を持つことから非破壊的なイメージング計測への展開が可能であり, パッケージング後の半導体機器を直接計測及び評価できる強みがあるが, 既存技術がプロセス精度レベルの計測精度には達していないことや, 複数のX線エネルギー領域で高分解能化が求められていること,等の理由から産業利用は限定的であった. 本講演では我々が研究開発を進めている, 高感度シンチレータや小型X線源の開発などについて紹介し, 将来的な先端半導体のX線イメージングへの展開について述べる.